光刻机在芯片制造领域的较量

光刻机与芯片制造竞争
新一轮EUV光刻机争夺战开打
在国际范围内，作为EUV光刻机的唯一供应企业，ASML在业内受到越来越多的关注，尤其是在以台积电为代表的先进制程迅速发展的当下，其重要性不断上升。
ASML公布了2021年第四季度及全年财务报告，内容一如既往地出色。该公司2021年第四季度营收为50亿欧元，净利润达到18亿欧元，毛利率为54.2%，新增订单金额为71亿欧元，其中26亿欧元来自0.33 NA（数值孔径）和0.55 NA EUV系统订单；全年营收总计达186亿欧元，其中63亿欧元来自42台EUV系统，全年净利润为59亿欧元，毛利率为52.7%。
ASML还发布了对2022年第一季度的财务预测，预计营收净额将在33亿至35亿欧元之间，并预计全年的营收净额将比2021年增长约20%。
EUV光刻机的重要性愈加突出
相较于现有的氟化氩 (ArF) 曝光技术,EUV光刻机所使用的波长更短,仅为原来的1/14,这使得其在实现半导体最先进制程方面具有显著优势。近年来,随着对10nm以下先进制程需求的持续增长,EUV曝光设备的供应也在逐步增加。由于EUV设备加工工艺复杂,ASML每年的产量相对有限。近期,ASML正致力于提升其产能和供应能力。
随着市场需求的增长以及客户群体的扩大,EUV光刻机的供应数量将持续增加。据预测,两年内累计供应量将超过当前水平的