ALD技术产品的结构形式

ALD技术产品形态
原子层沉积研究设备
倍耐克TFS 200是一款适用于科研机构及企业研发活动的高灵活性ALD平台。该设备专为多用户研究环境设计，有效控制可能产生的交叉污染问题。丰富的可选配置和升级方案确保了倍耐克TFS 200能够持续适应日益增长的高要求研究需求。
倍耐克TFS 200不仅适用于平面基材的薄膜沉积，还能处理粉末、颗粒、松散多孔材料以及具有较大深宽比的复杂三维结构。直接与远程等离子体沉积（PEALD）作为TFS 200的标准功能之一被集成其中。所采用的等离子体技术为工业标准电容性耦合等离子体（CCP）。配备CCP等离子体选件后，该系统可支持直径最大达200mm、方向为朝上或朝下的基板进行直接与远程等离子体辅助ALD（PEALD）工艺。

有关Beneq TFS 200的相关信息可在选件及升级页面中查询。
适用于工业生产的薄膜系统
倍耐克P400A与P800是专为大规模工业制造而设计的原子层沉积设备，能够有效衔接从研发阶段至工业化生产的各个环节。该系统凭借其高度的技术稳定性和成熟的工业应用背景，成为当前行业中的优选方案。其设计基础源于在严苛